https://www.etnews.com/20210726000124 

그래핀랩(대표 권용덕)과 한국전자기술연구원(KETI·원장 김영삼)이 극자외선(EUV) 노광공정용 펠리클 부품 국산화를 위한 저온 직성장 그래핀 제조 핵심공정 기술개발에 손을 맞잡았다. 관련 기술이전 계약 체결 소식을 26일 밝혔다.

EUV 공정은 포토공정에서 EUV 광원을 사용하는 리소그래피 기술이나 이를 활용한 제조공정을 말한다.

그래핀랩은 이번 기술이전을 시작으로 향후 KETI와 △펠리클 부품 국산화를 위한 그래핀 초박막 성장기술 분야의 공동 연구 협력 △​그래핀 관련 신기술(EUV용 펠리클, OLED향 전자 재료 등) 공동 연구 및 인력 교류와 같은 협력을 확대할 계획이다.

그래핀랩은 2018년 1월 설립됐다. 국내 대기업에서 쌓은 노하우를 바탕으로 세계 최대 크기 화학증착(CVD) 그래핀을 제조, 전 세계 공급망을 확대하는 강소벤처기업이다. 최근 일본 수출 규제로 인한 수급 불안정에 대응하기 위해 그래핀 제조 필수 소재·부품·​장비 국산화에도 앞장서고 있다.

특히 CVD 그래핀 제조용 동박 및 촉매 금속 제거를 위한 식각용액 첨가재 국산화를 100% 달성했다.

KETI는 지난해 5월 과학기술정보통신부 지원으로 출범한 소재혁신선도 프로젝트 'EUV 마스크·펠리클 소재연구단' 주관기관이다. 5년간 기술개발을 추진중이다. 개발 착수 후 1년간 약 23건 펠리클 소재 및 제조공정 특허를 출원했다. 이 가운데 높은 기계적 강도와 투과도, 열충격 완화 특성을

갖는 그래핀 저온·​직성장 제조방법 기술이전을 그래핀랩에 추진하게 됐다.

권용덕 그래핀랩 대표는 "그래핀 기반 펠리클 초박막 성장기술 기술이전 계약으로 기술경쟁력을 한층 더 강화할 것"이라며 "KETI와 협업해 양질의 펠리클 원소재 개발, 양산화에 나서 세계적인 경쟁력을 가진 기업으로 거듭나겠다"고 밝혔다.

김형근 KETI EUV 마스크·​펠리클 소재연구단장은 "KETI가 보유한 그래핀 기반 펠리클 초박막 성장 핵심기술과 그래핀랩의 그래핀 양산화 경험이 더해진다면 5나노미터(nm) 이하 EUV 노광용 펠리클 소재·​부품뿐만 아니라 다양한 고부가가치 소재·​응용 분야에서도 세계가 주목할 만한

산연 협력 성공사례를 창출할 수 있을 것"이라고 말했다.​