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그래핀랩(대표 권용덕)과 한국전자기술연구원(KETI, 원장 김영삼)이 '저온 직성장 그래핀의 제조 핵심 공정 기술 개발'을 위한 기술이전 계약을 체결했다. 극자외선(EUV) 노광공정용 펠리클 부품의 국산화를 위해서다.
그래핀랩은 이번 기술 이전을 시작으로 KETI와 펠리클 부품 국산화를 위한 그래핀 초박막 성장기술 분야의 공동 연구, 그래핀 관련 신기술 공동 연구·인력 교류 등에 협력해 나갈 계획이다.
그래핀랩은 2018년 1월에 설립된 강소 벤처기업이다. 권 대표 등이 대기업에서 쌓은 노하우를 바탕으로 세계 최대 크기의 화학기상증착법(CVD) 기반 그래핀을 제조, 전 세계 공급망을 확대하고 있다. 또 일본 수출 규제로 인한 수급 불안정에 대응하기 위해 그래핀 제조를 위한 필수적인 소재·부품·장비의 국산화에도 앞장서고 있다.
KETI는 과학기술정보통신부 지원으로 출범한 소재혁신선도 프로젝트 'EUV 마스크/펠리클 소재연구단'의 대표 연구기관이다. 약 23건의 펠리클 소재 및 제조 공정 관련 특허를 출원했다. 특히 이번에 높은 기계 강도, 열충격 완화, 높은 투과도의 특성을 갖는 '그래핀 저온·직성장 제조방법'에 대한 기술을 그래핀랩에 이전하게 됐다.
권용덕 그래핀랩 대표는 "'그래핀 기반 펠리클 초박막 성장기술'에 대한 기술이전 계약을 통해 기술 경쟁력을 한층 더 강화할 것"이라면서 "KETI와 협업해 양질의 펠리클용 원소재 개발과 양산화를 위해 노력하겠다"고 했다.
김형근 KETI 'EUV 마스크/펠리클 소재연구단' 단장은 "이번 계약으로 KETI가 보유한 그래핀 기반 펠리클 초박막 성장 기술과 그래핀랩의 그래핀 양산화 경험이 더해질 것"이라면서 "EUV 노광용 펠리클 소재·부품뿐 아니라 다양한 고부가가치 소재 및 응용 분야에서 세계가 주목할 산연 협력 성공 사례를 창출할 수 있다"고 했다.