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그래핀랩, 2세대 EUV 펠리클 기술 개발..특허출원 완료
작성자최상위관리자
날짜2022-04-28
조회수1168

 

https://news.mt.co.kr/mtview.php?no=2022042718060883940
(사진 왼쪽부터)정재윤 제이원테크피아 대표와 이상민 그래핀랩 이사가 최근 입고된 EUV(극자외선) 펠리클 제작 장비 및 특허출원에 관한 회의를 하고 있다/사진제공=그래핀랩​

 

 

 

그래핀랩이 제이원테크피아와 공동으로 2세대 EUV(극자외선) 펠리클 제조와 관련된 기술을 개발해 특허를 출원했다고 28일 밝혔다.


이번 성과는 정재윤 제이원테크피아 대표와 그래핀랩의 공동연구에 따른 것이다. 펠리클 관련 특허 출원명은 △박막 에칭장치 △웨이퍼 지지장치 △박막시료 캐리어 △펠리클 제조방법 및 이에 의해 제조된 펠리클이다.

'박막 에칭장치' 특허는 반도체 제조 공정에 사용되는 포토마스크의 손상을 방지하고자 표면에 부착하는 '박막'의 제조장치에 관한 것이다. 박막 이동을 최소화하면서 세부공정을 수행할 수 있는 장치를 제공하는 게 목적이다.

'웨이퍼 지지장치' 특허는 에칭 공정을 위한 처리조에서 웨이퍼 시료를 안정되게 지지하는 장치를 제공하는 기술에 관한 것이다. '박막시료 캐리어' 특허는 박막 시료를 안정되게 지지·이동할 수 있는 캐리어를 제공하는 기술에 대한 것이다. '펠리클 제조방법 및 이에 의해 제조된 펠리클' 특허는 안정적인 상태에서 증착된 질화 실리콘 층을 5㎚ 이하로 에칭한다는 내용을 담고 있다. EUV투과율·생산수율이 높은 펠리클을 제조 및 제공하는 게 목적이다.

김기수 그래핀랩 이사(펠리클 팀장)는 "이번 특허 출원으로 최근 입고된 2세대 EUV 펠리클 제조 장비를 사용하고 생산 단계를 수립하는 데 시너지를 낼 것으로 전망한다"면서 "이를 발판으로 그래핀 기반 2세대 EUV 펠리클 생산 체계를 확고히 구축하겠다"고 말했다. 이어 "세계적인 기술 경쟁력을 가진 그래핀 토털 솔루션 기업으로 거듭나겠다"고 덧붙였다.