https://news.mt.co.kr/mtview.php?no=2022091318045497439
그래핀랩이 독자 기술 개발을 통해 고해상도 FMM(Fine Metal Mask) 양산화에 가장 중요한 요소 중 하나로 알려진 인바(invar) CTE(Coefficient of Thermal Expansion, 열팽창계수)값을 1ppm/℃ 이하로 낮추는 데 성공하고, 공정 개선으로 재현성을 확보했다고 14일 밝혔다.
회사 관계자는 "CTE값 관련 이슈는 여러 FMM 제조사들의 해결 과제 1순위였다"며 "그렇지만 CTE값을 낮추는 데에는 기술 장벽이 높았고, 1ppm/℃ 수준으로 유지하는 것도 매우 어려웠다"고 설명했다.그래핀랩은 최근 FMM CTE값을 1ppm/℃ 이하로 낮추는 데 성공한 회사다. 이후 공정 개선을 거쳐 CTE 값 1ppm/℃대의 양산성 기술도 확보했다. 기술 확보에는 인바를 구성하는 니켈·철 등의 구성비에 대한 꾸준한 연구·개발과 독자적인 그래핀 기반의 기술 적용을 통한 공정 개선이 핵심 해결 요소였다는 게 회사 측 설명이다. 샘플에 대한 CTE 값 측정은 공인인증기관인 한국고분자시험연구소에서 진행했다.이상민 그래핀랩 이사(FMM 개발 총괄)는 "이번 성과를 통해 OLED(유기발광다이오드)의 핵심 기술인 FMM의 양산을 눈앞에 두게 됐다"며 "성과에 안주하지 않고 끊임 없는 연구·개발을 통해 메타버스향 AR(증강현실)·VR(가상현실)용 고해상도 FMM까지 완성할 것"이라고 말했다.한편 그래핀랩은 2021년 산업통상자원부에서 지원하는 글로벌기술도입형 국제공동기술개발 사업에 선정된 바 있다. 해당 사업 선정으로 'CVD 그래핀 시트를 활용한 MSAP FMM 제작기술 개발' 과제를 수행 중이다.
(왼쪽부터)1~3회차 CTE 측정 결과/사진제공=그래핀랩