그래핀랩, 그래핀 기술 기반 OLED 및 EUV 펠리클 관련 특허 등록
작성자최상위관리자
날짜2022-09-19
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https://news.mt.co.kr/mtview.php?no=2022091914181481786

 

그래핀 전문기업 그래핀랩이 최근 '파인 메탈 마스크 제조방법' '탄소계 박막 쉐도우 마스크 및 그 제조방법' '오존가스를 이용한 펠리클 소재용 그래핀박막의 제조방법' 등 OLED(유기발광다이오드) 및 펠리클 관련 특허 등록을 완료했다고 19일 밝혔다.


'파인 메탈 마스크 제조방법'은 OLED 제조 단가 상승 및 수율 저하, 쉐도우 이펙트 문제 등 종래 기술의 문제점을 해소할 수 있는 기술이다. 선택적 에칭 방법을 통해 기판으로부터 파인 메탈 마스크(FMM)를 분리할 수 있다. 종래 기술에 비해 손상 없이 안전한 분리가 가능하다는 게 업체 측 설명이다.

'탄소계 박막 쉐도우 마스크 및 그 제조방법'은 △에칭 방식 △전주도금 방식 △레이저 에칭 방식 등 기존 FMM 제조 방식의 문제를 해결할 수 있는 기술이다. 해상도 한계, 수율 문제, 미세 패턴 구현의 어려움, CTE(열팽창계수) 문제 등을 해소하는 게 가능하다. 업체 관계자는 "그래핀 합성에 의한 고해상도 특성을 유지하면서 동시에 낮은 CTE값도 유지할 수 있다"고 했다.

업체에 따르면 현재 여러 국내외 기업이 실리콘 계열 등 다양한 소재를 이용한 극자외선용 펠리클 개발을 시도 중이다.

그래핀랩 관계자는 "그래핀 소재가 팰리클용에 가장 적합하다고 알려져 있다"며 "그래핀은 극자외선에 대해 90% 이상의 투과율을 보이고, 기저면이 면적 방향으로 동일하게 배열되는 경우 매우 높은 인장 강도를 가지는 물질"이라고 말했다. 이어 "이 때문에 높은 투과율 및 열적 안정성 등 모든 특성 지표를 만족시킬 수 있다"고 덧붙였다.

하지만 그래핀이 펠리클로 사용되기 위해선 해결해야 할 여러 문제점이 있다. 그래핀 저온 직성장법으로 형성되는 그래핀 두께 제어 기술이 필요하다. 그래핀 보호층에 대한 식각 문제도 있다.

'오존가스를 이용한 펠리클 소재용 그래핀 박막의 제조방법'은 이러한 문제를 해결할 수 있는 기술이다. 업체 관계자는 "해당 특허 기술은 그래핀 박막의 두께 제어가 용이하다"며 "우수한 자외선 투과율과 균일도를 나타낸다"고 했다. 이어 "식각 과정에서 그래핀 층의 손상을 억제해 기계적 강도를 유지한다"며 "표면 기능화를 통해 캡핑층이 균일하게 증착될 수 있게 한다"고 덧붙였다.

권용덕 그래핀랩 대표는 "회사의 자체 그래핀 기술을 활용한 OLED 분야와 EUV 펠리클 분야 등 다양한 분야와의 접목을 통해 그래핀 토털 솔루션 기업으로서의 입지를 더 확고히 했다"며 "끊임없는 연구·개발을 통해 더욱 다양한 분야에 기술을 적용할 수 있도록 발전할 것"이라고 말했다. 이어 "이를 통해 사업의 다각화를 꾀하고 국내 시장뿐만 아니라 세계 시장을 선도하는 기업이 되겠다"고 했다.

한편 그래핀랩은 지난 8월 그래핀 기술 기반의 '전계 방식에 의한 기상오염물질 제거장치'에 대한 특허도 등록한 바 있다.