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EUV 펠리클 EUV Pellicle
EUV 펠리클 (Extreme Ultraviolet Pellicle, 극자외선)이란 대기 중 분자나 오염으로부터
포토마스크(Photomask) 표면을 보호해 주는 나노 단위의 박막을 말한다.

자료 : 산업자료, 메리츠종금증권 리서치센터

  • EUV 공정

    EUV 공정은 반도체를 만드는 데 있어 중요한 과정인 포토공정에서 극자외선 파장의 광원을 사용하는 리소그래피(Lithography) 또는 이를 활용한 제조공정을 말한다.

  • EUV 공정 장점

    극자외선 파장은 기존 공정의 불화아르곤(ArF) 광원보다 파장의 길이가 10분의 1미만이기 때문에, 노광작업을 하면 반도체 회로 패턴을 더욱 세밀하게 제작할 수 있을뿐더러 공정 수를 줄여 생산성 및 성능의 향상을 확보할 수 있다.

펠리클(Pellicle)이란?
대기 중 분자나 오염으로부터 포토마스크(Photomask) 표면을
보호해 주는 나노 단위의 박막을 말한다.

자료 : 산업자료, 메리츠종금증권 리서치센터

펠리클(Pellicle) 사용 효과

펠리클을 사용하게 되면 대기 중 분자나 오염으로부터 포토마스크를 보호해주기 때문에 불량률이 낮아지고, 포토마스크의 세척주기도 줄어든다. 이에 따라 포토마스크의 수명 또한 증가한다. 고가의 포토마스크의 수명이 증가함에 따라 비용 또한 절약할 수 있다는 장점이 있다.

EUV 펠리클 시장 전망

  • EUV 펠리클 시장 전망

    자료 : 산업자료, 메리츠종금증권 리서치센터

  • EUV 적용 시 필요한 마스크 및 펠리클 수

    자료 : 산업자료, 메리츠종금증권 리서치센터