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그래핀랩, EUV 펠리클 제조 설비 가동.. 시양산 청신호
작성자최상위관리자
날짜2024-09-26
조회수331

https://news.mt.co.kr/mtview.php?no=2024092516091762017​​

 

그래핀랩(대표 권용덕)이 EUV(극자외선) 펠리클 제조를 위한 신규 설비 도입을 완료하고 시양산 체제에 돌입했다고 26일 밝혔다.


그래핀랩은 펠리클 제조를 위해 각 공정에 필요한 설비를 도입·가동 중이다. 기존 입고된 RTA(Rapid Thermal Annealing) 장비는 급속 열처리로 EUV 펠리클의 코어층이 되는 멀티 레이어(Multi-Layer) 그래핀을 합성하는 공정에 사용된다.

 

회사는 이번에 PEALD(Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition) 장비를 새롭게 도입했다. 이 장비는 EUV 펠리클의 보호막층을 균일하게 증착할 수 있고 막질의 상태가 우수하다는 강점을 지녔다. 제품의 EUV 투과율 제고에 큰 도움을 줄 것이라고 업체 관계자는 말했다.


그래핀랩 측은 "이번 설비 도입으로 EUV 펠리클 완제품 시양산 단계에 진입했다"면서 "현재 장비 셋업을 마치고 원활히 가동 중이며 샘플 제작 및 특성 평가도 함께 진행하고 있다"고 했다.

그래핀랩에 따르면 펠리클은 노광 공정 시 포토마스크(Photomask)를 오염으로부터 보호하는 박막이다. 사용 주기 향상 및 불량률 감소에 필수적인 요소다. 

 

권용덕 그래핀랩 대표는 "추가로 입고 예정인 'Cluster Sputter System'(클러스터 스퍼터 시스템)을 통해 생산 속도와 생산량을 더욱 늘릴 수 있을 것"이라며 "EUV 펠리클 완제품의 두께 균일성 개선에도 큰 효과가 있을 것으로 기대한다"고 말했다.


한편 그래핀랩은 양산 기술 보호를 위해 국내 특허 등록을 완료했다. 현재 4건의 주요 특허에 대해 해외 특허를 출원 중이다. 회사 측은 "지속적인 연구·개발을 통해 양질의 차세대 EUV 펠리클을 생산하고 글로벌 경쟁력을 갖춘 기업으로 성장하겠다"고 말했다.