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그래핀랩, EUV 펠리클 샘플 제작 완료..투과율 90% 눈앞
작성자최상위관리자
날짜2022-06-22
조회수1277

https://news.mt.co.kr/mtview.php?no=2022062210270284704

 

 


EUV 펠리클 샘플/사진제공=그래핀랩​

 

그래핀랩이 자사가 보유한 그래핀 기술을 기반으로 투과율 87%의 EUV(Extreme Ultraviolet) 펠리클(Pellicle) 샘플을 제작 완료했다고 22일 밝혔다.


EUV 펠리클은 반도체 노광 공정에서 포토마스크(Photomask)를 이물질로부터 보호하는 박막을 말한다. 이를 사용하면 대기 중 분자나 오염으로부터 포토마스크를 보호할 수 있다. 이 때문에 불량률이 낮아지고 포토마스크의 세척 주기도 줄어든다. 이로 인해 포토마스크의 수명이 증가하므로 관련 비용을 절약할 수 있다.

그래핀랩은 투과율 90%를 목표로 해당 기술의 개발을 완료한 업체다. 총 박막의 두께는 10~20㎚ 정도다. 특히 회사는 최근 실리콘 나이트라이드 두께를 정밀하게 식각하는 기술과 그래핀 층 두께를 조절하는 기술의 개발도 완료했다. 

 

그래핀랩 관계자는 "실리콘 나이트라이드 식각 공정 과정에서 두께의 균일도(Uniformity)를 확보하는 중"이라며 "화학적 및 건식·습식 등 복합적 공정을 개발했다"고 말했다. 이어 "지속적인 투자를 통한 연구·개발로 완성 단계에 접어들었다"고 덧붙였다.


그래핀랩의 자체 시뮬레이션 결과 이번 샘플의 투과율은 87% 이상인 것으로 알려졌다. 회사는 외부 기관에 의한 투과율 측정도 준비 중이다. 업체 측은 투과율에 가장 큰 파라미터라 할 수 있는 실리콘 나이트라이드 컨트롤 및 그래핀층 두께 제어 기술을 확보했기 때문에, 올 3/4분기 내로 투과율 90%를 달성할 수 있을 것으로 예상한다고 했다.

그래핀랩 관계자는 "이번에 개발 완료한 실리콘 나이트라이드 컨트롤 및 그래핀층 두께 제어 기술을 통해 제작된 샘플을 시작으로 투과율 90% 달성을 목전에 두고 있다"며 "끊임없는 기초 소재 그래핀 연구와 공정 개발로 조속한 시일 내에 풀사이즈 펠리클의 개발 성과를 내겠다"고 했다.