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그래핀 부문 토탈솔루션 기업인 ㈜그래핀랩의 성장성도 한층 높아졌다. 그래핀랩은 CVD(화학기상증착법) 그래핀과 반도체 EUV(극자외선) 공정 필수품 중 하나인 펠리클(Pellicle), OLED 필수 부자재 중 하나인 FMM(Fine Metal Mask), 플레이크 그래핀을 활용해 방열 분야를 포함한 이차전지, 면상발열체 등 그래핀을 기반으로 한 다양한 사업 분야를 선도하고 있다.

특히 정부 연구 부문에서도 두각을 드러내고 있다. 현재 ‘CVD 그래핀 시트를 활용한 MSAP FMM 제작기술 개발’에 대한 정부 과제를 3년 동안 32억 원을 지원 받아 수행 중이다. 해당 과제를 잘 수행함에 따라 국내 소부장 기업으로의 기술 확산과 소재 및 부품의 국산화를 이뤄낼 예정이다. 그래핀랩은 5일 한국전자기술연구원(KETI)과 그래핀 기반 EUV 펠리클 핵심공정 기술 분야 업무협약(MOU)을 체결했다. EUV는 극자외선 파장의 광원을 활용한 반도체 제조공정이다. 모든 면에 균일한 박막 형성이 가능해 차세대 반도체 핵심기술로 손꼽힌다. 이번 업무협약을 통해 끊임없는 연구개발과 기술 및 인력교류를 통해 전 세계에서 양산화 사례가 전무한 펠리클의 양산화를 이뤄낼 예정이다.

박윤정 기자 ongoh@donga.com​