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그래핀랩, KETI와 그래핀 기반 EUV 펠리클 기술 개발 MOU 체결
작성자최상위관리자
날짜2022-04-05
조회수1243

https://news.mt.co.kr/mtview.php?no=2022040510425114941 

 


 

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[장영진 KETI 원장(사진 왼쪽)과 권용덕 그래핀랩 대표가 그래핀 기반 EUV 펠리클 핵심공정 기술 개발을 위한 MOU를 맺고 기념촬영 중이다/사진제공=그래핀랩]

 

㈜그래핀랩(이하 그래핀랩)이 한국전자기술연구원(이하 KETI)과 그래핀 기반 EUV(극자외선) 펠리클 핵심공정 기술 개발을 위한 MOU(업무협약)를 체결했다고 5일 밝혔다.


그래핀랩과 KETI는 2021년 7월 저온 직성장 그래핀의 제조 핵심 공정 기술을 개발하기 위한 기술이전 계약을 체결했다. EUV 노광공정용 펠리클 부품을 국산화한다는 내용이다. 이후 'G-MICA 기반의 EUV 펠리클을 제조하기 위한 캡핑 소재 및 공정 기술 개발'을 추진해왔다. 그래핀 저온 직성장 기술과 관련, EUV 노광환경에서 수소플라즈마 손상을 최소화하기 위해서다. 펠리클 부품 국산화를 위한 공동 연구와 인력 교류 등에 대해서도 협력을 확대해왔다.

이번에 그래핀랩과 KETI는 펠리클의 상용화 및 시장 요구에 신속 대응하고자 협약을 체결했다. 그래핀 기반 차세대 EUV 펠리클 및 SPF 멤브레인 핵심 공정 기술을 개발한다는 내용이다. 이번 협약으로 양 기관은 EUV 펠리클 핵심공정 기술 분야의 공동 사업을 발굴 및 기획하고 공동 연구에 협력할 방침이다. 인력 교류를 지속 이어나간다는 계획이다. 특히 산·연 EUV 펠리클 공동 연구실을 개소함과 동시에 2세대 펠리클 제조 기술을 개발하는 데 협력하기로 했다.

EUV 펠리클 산·연 공동 연구실 개소 현판식엔 장영진 KETI 원장과 'EUV 마스크·펠리클 소재연구단'을 이끄는 김형근 단장 등이 참석했다. 그래핀랩 측은 권용덕 대표와 연구소장 등이 자리했다.

김기수 그래핀랩 이사(펠리클 팀장)는 "이번 공동 기술 개발 연구소 설립을 통해 KETI와의 관계를 한층 더 견고히 할 것"이라면서 "KETI와 공동 연구 및 인력 교류를 통해 기술 경쟁력을 높이겠다"고 말했다. 이어 "양질의 펠리클 소재 개발과 양산화를 위해 끊임없이 노력해 세계적인 경쟁력을 가진 기업으로 거듭나겠다"고 덧붙였다.​