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그래핀랩, 2세대 EUV 펠리클 생산 장비 투자 완료
작성자최상위관리자
날짜2022-04-19
조회수1324

https://news.mt.co.kr/mtview.php?no=2022041913535666477 

 


(사진 왼쪽부터)그래핀랩의 이상민 이사와 김기수 이사가 새로 도입한 스퍼터 장비 앞에서 기념사진을 찍고 있다/사진제공=그래핀랩​

 

그래핀랩이 최근 2세대 EUV(극자외선) 펠리클 제작에 필요한 장비 투자를 완료했다고 19일 밝혔다.


그래핀랩에 따르면 회사가 투자한 2세대 EUV 펠리클 생산 장비는 순차적으로 입고됐다. 기존 입고된 장비는 퍼니스(Furnace) 및 에칭(Etching) 장비다. 퍼니스 장비는 MICA 공정 진행을 위한 8인치 웨이퍼용 열처리 장비다. EUV 펠리클의 코어 레이어인 수십 나노미터의 그래핀 형성에 사용된다. 에칭 장비는 EUV 펠리클 제작을 위한 Wet station(웨트 스테이션)이다. 'Layer exchange' 뒤에 표면 Ni(니켈) 웨트 에칭 및 코어 레이어 캡핑 이후 마지막 Si(실리콘) 웨이퍼 KOH 에칭에 사용된다.

이번에 입고된 것은 스퍼터(Sputter) 및 플라즈마(Plasma) 장비다. 스퍼터 장비는 EUV 펠리클 제작을 위한 Ni 및 무정형 탄소(Amorphous carbon)를 Si 웨이퍼 위에 증착하는 설비다. 플라즈마 장비는 그래핀 상전 이후 Ni 표면에 잔존하는 그래핀이나 질화 규소(Silicon nitride)를 제거하는 설비다. 

 

회사 관계자는 "해당 장비들의 입고와 동시에 세팅 작업에 돌입했다"며 "곧 유틸리티 작업까지 마칠 예정"이라고 했다.


김기수 그래핀랩 이사(펠리클 팀장)는 "이번 장비 투자를 통해 2세대 EUV 펠리클 양산화에 한발 더 가까워졌다"며 "끊임없는 연구·개발을 통해 양질의 EUV 펠리클을 생산하고 세계적인 기술 경쟁력을 가진 기업으로 거듭나겠다"고 말했다.