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그래핀랩(대표 권용덕)은 한국전자기술연구원(KETI)과 'G-MICA 기반의 극자외선(EUV) 펠리클 제조를 위한 캡핑 소재 및 공정 기술 개발'을 추진한다고 13일 밝혔다. 그래핀 저온 직성장 기술 관련, EUV 노광환경에서 수소플라즈마 손상을 최소화하기 위함이다.

그래핀랩은 지난해 7월 KETI와 '저온 직성장 그래핀 제조 핵심공정 기술 개발'을 위한 기술 이전 계약을 맺은 바 있다. EUV 노광공정용 펠리클 부품을 국산화하기 위해서다. 또 투자를 통해 클린룸 증설 및 양산화용 설비를 도입하고자 추진 중이다.

그래핀랩은 펠리클 부품 국산화를 위한 그래핀 초박막 성장기술 분야 공동 연구, 그래핀 관련 신기술(EUV용 펠리클, OLED 向전자 재료 등) 공동 연구 및 인력 교류 등에 KETI와 협력해 왔다.

유병욱 박사(그래핀랩 연구소장)는 "이번에 KETI와 'EUV 펠리클 캡핑 소재 및 공정 기술 개발'을 추진하면서 기술 경쟁력을 한층 더 강화할 것"이라면서 "KETI와의 지속적인 공동 연구 및 인력 교류 등을 통해 양질의 펠리클 캡핑 소재를 개발하고 양산화에 나서겠다"고 말했다. 이어 "끊임없는 노력으로 세계적인 경쟁력을 가진 기업으로 거듭나겠다"고 덧붙였다.

김형근 KETI 'EUV 마스크·펠리클 소재연구단' 단장은 "KETI와 그래핀랩은 EUV 노광용 펠리클 소재·부품뿐 아니라 고부가가치 소재 및 응용 분야에서도 주목할 만한 산연 협력 성공 사례를 창출할 수 있을 것"이라면서 "KETI가 보유한 그래핀 기반 펠리클 초박막 성장 핵심 기술과 그래핀랩의 그래핀 관련 기술력이 더해진다면 가능하다"고 했다.